详细分析掩模对准曝光机的技术数据以及使用特点

　　掩模对准曝光机是指通过开启灯光发出UVA波长的紫外线，将胶片或其他透明体上的图像信息转移到涂有感光物质的表面上的机器设备。该仪器可广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领。

 

　　技术数据：

　　掩模对准曝光机以其多功能性和可靠性而著称，在小的占位面积上结合了先进的对准功能和优化的总体拥有成本，提供了先进的掩模对准技术。它是光学双面光刻的理想工具，可提供半自动或自动配置以及可选的全覆盖Gen 2解决方案，以满足大批量生产要求和制造标准。拥有操作员友好型软件，短的掩模和工具更换时间以及高效的球服务和支持，使它成为任何制造环境的理想解决方案。

　　该仪器或*容纳的EVG620 NT Gen2掩模对准系统配备了集成的振动隔离功能，可在各种应用中实现出色的曝光效果，例如，对薄而厚的光刻胶进行曝光，对深腔进行构图并形成可比的形貌，以及对薄而易碎的材料（例如化合物半导体）进行加工。此外，半自动和全自动系统配置均支持EVG专有的SmartNIL技术。

　　产品特点：

　　1、高清彩色双显示屏；

　　2、设备稳定性，耐用性超高；

　　3、操控手柄调控模式的*设计；

　　4、抗衍射反射的高效光学光路设计；

　　5、可选支持单面对准和双面对准设计；

　　6、带安全保护功能的温度和气流传感器；

　　7、采用LED穿透物镜照明技术，具有*对准亮度；

　　8、采用基于无限远修正的显微镜镜头架构；

　　9、具有自动执行楔形误差补偿，并在找平后自动定位功能；

　　10、操作简易，具有支持多操作员同台使用的友好操作界面；

　　11、全新气动轴承导轨设计，高jīng准，低磨损，无需售后维护的；

　　12、高清晰彩色双CCD镜头采用的分裂视场显微镜镜头；双头高清全彩物镜。