接触式光刻机是一种用于信息科学与系统科学、能源科学技术、电子与通信技术领域的工艺试验仪器，于2016年7月12日启用。
其实在我国对于接触式光刻机，曝光时掩模压在光刻胶的衬底晶片上，其主要优点是可以使用价格较低的设备制造出较小的特征尺寸。
我们也许不知道接触式光刻和深亚微米光源已经达到了小于0.1 gm的特征尺寸，常用的光源分辨率为0.5 gm左右。该设备的掩模版包括了要复制到衬底上的所有芯片阵列图形。在衬底上涂上光刻胶，并被安装到一个由手动控制的台子上，台子可以进行X、y方向及旋转的定位控制。
在操作过程中掩模版和衬底晶片需要通过分立视场的显微镜同时观察，这样操作者用手动控制定位台子就能把掩模版图形和衬底晶片上的图形对准了。经过紫外光曝光，光线通过掩模版透明的部分，图形就转移到了光刻胶上。设备的主要缺点是依赖于人操作，由于涂覆光刻胶的圆片与掩模的接触会产生缺陷，每一次接触过程，会在圆片和掩模上都造成一定的缺陷。因此，该设备一般用于能容忍较高缺陷水平的器件研究和其他应用方面。
所以该设备还是先阶段使用比较好的一种刻录机，这种刻录机的技术比较先进，操作也简单。
设备的主要用途及特点：
1、本设备适用于对&Phi；100mm以下，厚为0——5mm各种基片的曝光。
2、由于采用了高均匀性的多点光源曝光头，非常理想的三点找平机构，稳定可靠的真空压紧曝光，使本机的曝光分辨率和曝光均匀性都大为提高。
3、版不动﹑片动的对准方式，保障了导轨自重和受力方向的一致性，加之承片台升降采用无间隙滚珠直进导轨和三点式找平机构的成功应用，使本机漂移特小，对准精度高，对准速度快。
4、本设备的电气控制采用PLC控制，各主要元件（如电磁阀等）均采用进口件，设备运行的高稳定﹑可靠是本机的又一大优点。
