光刻技术实际上是一种精密表面加工技术，它借助于一定波长的激光光源以及选择性的化学腐蚀和刻蚀技术把设计的微纳图案转移到硅基板上。但是随着集成电路功能和密度的提升传统的光刻技术已经难以满足当前对线宽越来越小的需求。但是打破衍射极限的大型光刻设备又极其昂贵。为了摆脱光学衍射极限和克服高成本的限制，一种操作简单，成本低廉的纳米压印技术产生了。纳米压印的技术核心是充分利用机械能将刚性模板上的图案转到抗蚀剂上，之后再借助溶脱、剥离、刻蚀等将图案转移到基板上。到目前为止压印技术已经发展出来多种类型，典型的包括热塑压印技术、紫外固化压印、微接触纳米压印、激光辅助纳米压印和滚轴式纳米压印技术等。
该款
纳米压印机一种非常灵活的仪器。它可提供加热型纳米压印、UV紫外纳米压印以及真空纳米压印。模块化系统可根据特定需求轻松配置，体积小，容易存放，大可处理210mm（8英寸）圆形的任何尺寸印章和基材。该系统是手动装卸印章和模板，但所有处理器都是全自动的，软件用户可以*控制压印过程。
特色：
1、体积小巧，容易存放，桌面型；
2、轻微复制微米和纳米级结构；
3、热压印温度高达200℃；
4、可选的高温模块，适用于250℃；
5、可选的UV模块，适用于405nm曝光；
6、真空纳米压印（腔室可抽真空至0.1mbar）；
7、纳米压印压力高达11bar；
8、温度分布均匀、读数准确；
9、笔记本电脑全自动控制，工艺配方编辑简单，*灵活控制，自动记录数据。
