Thetametrisis膜厚测量仪用于氧化钇（Y₂O₃）涂层厚度测量。它可快速准确地绘制大型氧化铝陶瓷圆盘上的抗等离子涂层Y₂O₃层厚度。下面我们来看看用Thetametrisis膜厚测量仪测量氧化钇（Y₂O₃）涂层厚度的具体情况。
Thetametrisis膜厚测量仪测量氧化钇（Y₂O₃）的案例分析：
氧化钇（Y₂O₃）是一种非常有前景抗等离子涂层材料，且在集成电路中特征尺寸的持续减小应用在化学机械抛光后的高度平整工艺用作化学机械平面化（CMP）的磨料，具有犷泛的应用范围。氧化钇（Y₂O₃）由于其较高的温度稳定性和对具有高氧亲和力的碱性熔体的出色耐受性，还用于许多特殊应用，例如绝缘体、玻璃、导电陶瓷、耐火材料、着色剂。其他应用包括各种领域的透光材料，例如透镜、棱镜或玻璃，作为金属-铁电-绝缘体-半导体中合适的缓冲层，用于单晶体管 FeRAM 的结构。在本应用说明中，Thetametrisis膜厚测量仪用于在自动测量氧化铝陶瓷盘上氧化钇的厚度分布图。
为什么使用它，有什么目的和方法：
被测量的样品是一个直径为560mm表面带有氧化钇（Y₂O₃）层的氧化铝圆盘。使用Thetametrisis膜厚测量仪进行测量，光谱范围为370nm-1020nm，能够测量15nm至100um的涂层厚度。该机型通过旋转和线性载物台移动样品来绘制待测样品厚度分布图。通过软件行成的图案包括样品表面（R，theta）位置的208个点。
仪器的测量结果：
在下面的图像中，氧化钇（Y₂O₃）层的理论值（红线）和样品表面反射光谱（绿线）与厚度分布图一并呈现说明，如软件上所见，样品经过数次重复性扫描测量以确定工具的准确性和可重复性，并得出统计数据。
结论：
使用Thetametrisis膜厚测量仪成功的测量铝陶瓷盘的氧化钇（Y₂O₃）层的厚度分布。通过厚度测量并分析统计区域的厚度分布和均匀性，快速且无损地测量了薄膜厚度以保护陶瓷部件在等离子腔体中不受损坏。Thetametrisis膜厚测量仪是一种快速、准确测量大面积或预选位置上薄膜或叠层薄膜解决方案。
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