掩模对准光刻系统包括光复印和刻蚀工艺两个主要方面

更新时间：2022-11-17 | 点击率：992

　　掩模对准光刻系统与我们的生活息息相关，我们用的手机，电脑等各种各样的电子产品，里面的芯片制作离不开光科技束。如今的世界是一个信息社会，各种各样的信息流在世界流动。而光刻系统是保证制造承载信息的载体。在社会上拥有不可替代的作用。

　　光刻系统的技术原理：

　　掩模对准光刻就是把芯片制作所需要的线路与功能区做出来。利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用。

　　这就是光刻的作用，类似照相机照相。照相机拍摄的照片是印在底片上，而光刻刻的不是照片，而是电路图和其他电子元件。

　　掩模对准光刻系统是一种精密的微细加工技术。常规光刻系统是采用波长为2000～4500埃的紫外光作为图像信息载体，以光致抗光刻技术蚀剂为中间（图像记录）媒介实现图形的变换、转移和处理，然后把图像信息传递到晶片（主要指硅片）或介质层上的一种工艺。

　　在广义上，掩模对准光刻系统包括光复印和刻蚀工艺两个主要方面：

　　1、光复印工艺：经曝光系统将预制在掩模版上的器件或电路图形按所要求的位置，精确传递到预涂在晶片表面或介质层上的光致抗蚀剂薄层上。

　　2、刻蚀工艺：利用化学或物理方法，将抗蚀剂薄层未掩蔽的晶片表面或介质层除去，从而在晶片表面或介质层上获得与抗蚀剂薄层图形整体一致的图形。集成电路各功能层是立体重叠的，因而掩模对准光刻工艺总是多次反复进行。例如，大规模集成电路要经过约10次掩模对准光刻才能完成各层图形的全部传递。