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该设备支持多种标准光刻工艺,例如真空,软,硬和接近曝光模式,并可选择背面对准。此外,该系统还为多功能配置提供了附加功能,包括键对准和纳米压印光刻(NIL)。
EVG610提供快速的处理和重新安装工具,以改变用户需求,光刻和NIL之间的转换时间仅为几分钟。其先进的多用户概念可以适应从初学者到专家级别的所有需求,因此使其成为大学和研发应用程序的理想选择。
晶圆直径 | (基板尺寸) |
标准光刻 | 碎片蕞大150毫米 |
柔软的UV-NIL | 蕞大150毫米的碎片 |
解析度 | ≤40 nm(分辨率取决于模板和工艺) |
支持流程 | 柔软的UV-NIL |
曝光源 | 汞光源或紫外线LED光源 |
自动分离功能 | 不支持 |
工作印章制作 | 外部 |
图1 微镜头
图2 纳米压印结果(100纳米分辨率)
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