我们的EVG770分步重复纳米压印光刻机是用于步进式纳米压印光刻的通用平台，可用于有效地进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。这种方法允许从蕞大50 mm x 50 mm的小模具到蕞大300 mm基板尺寸的大面积均匀地复制模板。结合金刚石车削或直接写入方法，分步重复刻印通常用于有效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的SmartNIL工艺所需的母版。